物理氣相沉積法 (PVD)


 

簡介

物理氣相沉積法是一個利用蒸發,凝結,在對象(基板)上形成一層薄膜涂層材料的技術。隨著材料和厚度的要求不同,高真空磁控濺射鍍膜(PVD) 可以對應用自定義且滿足不同性質優化的需求,如裝飾,光學,電學和力學。

 

主要應用/優勢

物理氣相沉積法被用于在手表,首飾上沉積一個裝飾性的薄膜,以及在模具,刀具,低摩擦的機械零件上沉積一個功能性的薄膜。這個過程提供了較高的合格率和優良的品質,同時也環保。

物理氣相沉積法已成功地將裝飾性薄膜沉積在SUS和鈦基板上。功能薄膜,如類金剛石碳(DLC)膜可以應用到生產過程中,如齒輪零件的質量,提供更好的耐磨性。

項目 底部材料類型 涂層能力 工業用途
PVD 高真空磁控濺射鍍膜 SUS,鈦,銅,鋅,合金等  》 硬度: HV200-2000

 》 耐腐蝕性: > 48H (High)

 》 粗糙度: ~0.01 um
 》 表殼

 》 首飾

 》 家具

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